




另一方面,界面层中的氢离子也要向阴极迁移,溶液中的负离子(包括oh-)向阳极迁移。结果,阳极附近有oh-离子和其他负离子富集。随着电解反应的延续,处于紧邻阳极界面的溶液层中,钝化工艺,电解质浓度有可能发展到饱和或过饱和状态。于是,溶度积较小的金属氢氧化物或某种盐类就要沉积在金属表面并形成一层不溶性膜
当金属溶解时,处在钝化条件下,在表面生成紧密的、覆盖性---的固态物质,这种物质形成独钝化立的相,称为钝化膜或称成相膜,此膜将金属表面和溶液机械地隔离开,使金属的溶解速度---降低,而呈钝态。实验证据是在某些钝化的金属表面上,可看到成相膜的存在,并能测其厚度和组成。
在氧化层中大部分的电荷效应是直接或间接地同热氧化的工艺过程有关的。在800—1250~c的温度范围内,钝化处理,用干氧、湿氧或水汽进行的热氧化过程有三个持续的阶段,首先是环境气氛中的氧进入到已生成的氧化层中,然后氧通过二氧化硅向内部扩散,当它到达si02-si界面时就同硅发生反应,河北钝化,形成新的二氧化硅。这样不断发生着氧的进入—扩散—反应过程,使靠近界面的硅不断转化为二氧化硅,氧化层就以一定的速率向硅片内部生长。
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